随着科技和经济的提升，各种类型各种镀膜工艺的真空镀膜设备在不断的增加，其功能也越来越完善。

真空镀膜设备普遍应用于工业生产，无论是小产品还是大产品、金属制品还是塑胶制品、亦或者陶瓷、芯片、电路板、玻璃等产品，基本上所有需要进行表面处理镀膜的都需要用到。
在镀膜方式上，比较普遍的是采用蒸发镀或者磁控溅射镀或者离子镀，在控制技术上，更多的应用先进的计算机技术和微电子技术，使得真空镀膜设备更具性和智能自动化。

进口不导电（NCVM）镀膜设备应用于塑料电子产品:手机外壳、手机按键、电脑、数码、电子通信等的表面镀制不导电膜（NCVM）。
大功率蒸发系统，可控硅控制，重复性、稳定性高，独有镀透电极设计，气相沉积设备价格，配置石英晶振，台湾气相沉积设备，可控制任何膜层厚度，拥有的工件架技术，转速平稳可调，气相沉积设备制造商，产量大且良品率高。

NCVM是采用镀出金属及尽缘化合物等薄膜，利用相互不连续之特性，气相沉积设备厂家， 得到外观有金属质感且不影响到无线通讯传输之效果。
首先要实现不导电，满足无线通讯产品的正常使用

真空镀膜技术的应用时较早的。
20世纪初大发明家爱迪生就提出了唱片蜡膜采用阴极溅射进行表面金属化的工艺方法，并于1903年申报了，这便是薄膜技术在工业上应用的开始。
但是这一技术在当时因受到真空技术和其他相关技术发展的限制，发展速度较慢。
制备各种光学镜片和反光镜，从而首先使用这一技术在光学工业中得到了迅速的发展。
并且逐渐形成了薄膜光学，成为光学的一个重要分支。

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