比较成熟的镀膜技术有电弧离子镀、磁控溅射离子镀和复合离子镀。下面分别从各类镀膜技术中选取一种具有代表性的典型镀制工艺进行介绍。

一.用电弧离子镀的方法为黄铜电镀亮铬或镍手表壳镀制TiCN膜。采用小弧源镀膜机和脉冲偏压电源；

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真空镀膜技术的应用时较早的。20世纪初大发明家爱迪生就提出了唱片蜡膜采用阴极溅射进行表面金属化的工艺方法，并于1903年申报了，这便是薄膜技术在工业上应用的开始。但是这一技术在当时因受到真空技术和其他相关技术发展的限制，发展速度较慢。制备各种光学镜片和反光镜，有机高分子镀膜设备销售，从而首先使用这一技术在光学工业中得到了迅速的发展。并且逐渐形成了薄膜光学，有机高分子镀膜设备价格，成为光学的一个重要分支。

真空镀膜设备主要指需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。        

真空镀膜的工作原理是膜体在高温下蒸发落在工件表面结晶。由于空气对蒸发的膜体分子会产生阻力造成碰撞使结晶体变得粗糙无光，所以必须在高真空下才能使结晶体细密光亮，如果真空度不高结晶体就会失去光泽结合力也很差。早期真空镀膜是依靠蒸发体自然散射，结合差工效低光泽差。

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