帕利灵(Parylene)是一族由对二合成的热塑性塑料聚合物的通称。
它是在室温条件下气相沉积获得的薄膜物质，可以生成数百微米内任何厚度的薄膜。
利用真空沉积技术可以将膜厚精度控制在1μm。
此外，真空沉积的帕利灵具有均一性、保形性，无微孔无缺陷，化学性质不活泼等优良特性。
由于真空沉积不使用催化剂和溶剂，纳米镀膜加工厂，产出的薄膜很纯净，释气量很小。
有3种成熟的帕利灵材料：C型、D型和N型，帕利灵C透水性和透气性比其他两种小很多，应用广泛。
帕利灵C在温度300K时太赫兹频段的折射率大约为1.62，4.5K时降低到约1.5141。
吸收系数约为数10cm-1量级。
帕利灵C的这些特性使之成为硅、锗材质的透镜和窗口的合适的抗反镀膜材料。

离子镀：蒸发物质的分子被电子碰撞电离后以离子沉积在固体表面，称为离子镀。
这种技术是D.麦托克斯于1963年提出的。
离子镀是真空蒸发与阴极溅射技术的结合。
一种离子镀系统将基片台作为阴极，外壳作阳极，镀膜加工，充入惰性气体（如）以产生辉光放电。
从蒸发源蒸发的分子通过等离子区时发生电离。
正离子被基片台负电压加速打到基片表面。
未电离的中性原子（约占蒸发料的95％）也沉积在基片或真空室壁表面。

ParyleneC和ParyleneN的薄膜击穿电压

Parylene的特征之一是它们可以形成极薄的膜层。
ParyleneN薄膜和C薄膜的直流击穿电压被确定与高聚物厚度有肯定的关系。

Parylene是一种具有性能的敷形涂层材料，问世后首先在电子领域得到了应用。
1972年列入美军标46058C许可作为印刷电路板的敷形涂层材料，涂层厚度为0.0005-0.002英寸。

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