放电产生的正离子在电场作用下飞向阴极，与靶表面原子碰撞，受碰撞从靶面逸出的靶原子称为溅射原子，Parylene镀膜涂层，其能量在1至几十电子伏范围。
溅射原子在基片表面沉积成膜。
与蒸发镀膜不同，Parylene镀膜厂，溅射镀膜不受膜材熔点的限制，可溅射W、Ta、C、Mo、WC、TiC等难熔物质。
溅射化合物膜可用反应溅射法，即将反应气体 (O、N、HS、CH等)加入Ar气中，反应气体及其离子与靶原子或溅射原子发生反应生成化合物（如氧化物、氮化物等）而沉积在基片上。
沉积绝缘膜可采用高频溅射法。

在室温环境下，Parylene可以抵抗化学物质的侵袭，并且在150℃下不溶于所有的。
ParyleneC在175℃时可以消融与氯中，而ParyleneN在溶剂的熔点（265℃）时可溶。
两种高聚物都可以抵抗大多数溶剂的侵袭。
同时，它们也不受像Hostepal，Parylene镀膜， Igepal 和柠檬油这类的应力裂解溶剂的影响。

Parylene在可见光的范围内吸取得很少，因此是透明无色的。
无色透明的薄膜可用于光学器件、可擦性光电储存器件和静电复印器件。
在低于280微米时，ParyleneN和ParyleneC的吸取都很强。
所有的Paryleng在至少60微米的波长下都相对没有特征（除了一些峰值特征以外）。
图5，6和7透露表现1个mil薄膜的红外光谱。

提高强度和防腐蚀

近年来磁性材料的发展出现了烧结和粘结钕铁硼元件，它可制成很小的形状，使用Parylene涂敷工艺具有很突出的优良性。
小型钕铁硼磁性器件是易碎的，Parylene镀膜加工厂，添加Parylene涂层另一个优点是还可增加强度。
钕铁硼材料对来自大气中的潮湿产生的腐蚀也是很敏感的，Parylene较低的水汽透过率还提供了优异的防潮抗腐蚀防护。

一种低费用有效工艺

Parylene涂敷还能降低加工处理及劳动力的费用。
因为它能用卧式机系统同时一批涂敷成千上万个工件进行VDP工艺处理，这点与滚筒式电镀相似。
这种新技术开发和工程师设计师合适的使用现有技术及新的工具，将会有可能较好的解决当前遇到的一些复杂的问题。

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